Achieving short high-quality gate-all-around structures for horizontal nanowire field-effect transistors

Publikation: Bidrag til tidsskriftTidsskriftartikelForskningfagfællebedømt

  • J. G. Gluschke
  • J. Seidl
  • A. M. Burke
  • R. W. Lyttleton
  • Carrad, Damon James
  • A. R. Ullah
  • S. Fahlvik
  • S. Lehmann
  • H. Linke
  • A. P. Micolich
OriginalsprogEngelsk
Artikelnummer064001
TidsskriftNanotechnology
Vol/bind30
Udgave nummer6
Antal sider8
ISSN0957-4484
DOI
StatusUdgivet - 8 feb. 2019

Links

ID: 216157829